我們一說(shuō)到
等離子清洗機(jī)，大家首先會(huì)想到技術(shù)比較成熟的設(shè)備，主要分為電容耦合設(shè)備(CCP)和電感耦合設(shè)備(ICP)，而微波設(shè)備相對(duì)比較少見。但隨著近年來(lái)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)和新材料等領(lǐng)域的迅猛發(fā)展，微波等離子體表面處理技術(shù)也越來(lái)越受到重視。
工業(yè)應(yīng)用的微波清洗機(jī)一般都屬于表面波型，其工作模式是通過(guò)輻射微波電磁場(chǎng)直接將氣體擊穿實(shí)現(xiàn)放電，一般要求放電氣壓高，因?yàn)闆](méi)有離子的加速作用，其電子密度較高，對(duì)于有機(jī)物的去除和材料表面活化的效率是比較高的。
下面的進(jìn)入正題，等離子清洗機(jī)與超聲波清洗機(jī)的主要區(qū)別到底在哪里呢？
1、主要區(qū)別等離子清洗是干式清洗，超聲波清洗是濕法清洗，在經(jīng)過(guò)等離子清洗以后，被清洗物體已經(jīng)很干燥，不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。
2、等離子清洗在完成清洗去污的同時(shí)，還能改變材料本身的表面性能，如提高表面的潤(rùn)濕性能，改善膜的附著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。
3、雖然該設(shè)備表面上比超聲波清洗機(jī)更加智能化，但是還有很多缺點(diǎn)需要提示，比如放電氣壓高帶來(lái)的問(wèn)題是等離子體局域化比較嚴(yán)重，縱深清洗比較差，不利于多層面的大尺度的清洗處理，而且微波電磁場(chǎng)對(duì)電子元器件多少會(huì)有一定電磁輻射作用，有可能會(huì)造成電子元器件的擊穿損傷，最后就是設(shè)備造價(jià)高，維修保養(yǎng)不是很方便。
